真空電鍍機的真空室內的蒸汽分子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片的距離時，就可以獲得充分的真空條件。因此，需要將殘余氣體的平均自由程增加，然后減少蒸汽分子與殘余氣體分子的碰撞幾率，把真空室抽成高真空是非常必要的。
    在用真空電鍍機真空鍍膜過程中，對于真空度的要求不是越高越好，因為當真空室內的真空度超過10-6Pa時，就需要對真空系統(tǒng)進行烘烤去氣才能達到。而烘烤會污染基片，所以會低于這個真空度下制膜，成膜的質量也不會比超高真空制備的膜層差。這在抽真空的時候是需要考慮的問題，千萬不要忽視。

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